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采用薄膜沉積方式制備的以銅銦鎵硒、碲化鎘、非晶硅以及砷化鎵等材料為吸收層的太陽(yáng)能電池，實(shí)現(xiàn)太陽(yáng)光能轉(zhuǎn)化成電能。森利可提供的靶材包括：i-ZnO，AZO，ZnSnO，MgZnO，ITO，Si，Mo，CuGa以及CuInGa等。

為觸摸屏（TP），液晶顯示器（LCD），有機(jī)發(fā)光二極管顯示器（OLED）以及量子點(diǎn)顯示器（QLED）等提供系列關(guān)鍵靶材：ITO，IZO，IGZO，TiOx，NbOx，Si，Mo，Cu，Al，Ti，Nb，Ag，W等。

在玻璃表面上沉積具有多層膜系的金屬以及金屬氧化物薄膜，實(shí)現(xiàn)對(duì)可見(jiàn)光高透過(guò)及對(duì)中遠(yuǎn)紅外線(xiàn)高反射。森利可提供的靶材包括：AZO，JZOTM，ZnSnO，TIOx，ZrOx，SiAl，ZnSn，ZnAl，NiCr，SiAl，Ag等。

采用諸如聚合物分散液晶（PDLC）以及電致變色（EC）等器件實(shí)現(xiàn)光線(xiàn)的主動(dòng)控制。森利可提供用于上述器件磁控濺射沉積的透明電極層、變色層、鋰離子傳導(dǎo)層以及鋰離子儲(chǔ)存層的靶材材料，包括：AZO，JZOTM，ITO，WO3，NbOx，Si，Li，Li鹽電解質(zhì)，W，Mo，Nb，Cr等。

工模具鍍膜可大幅提高刀具、模具與摩擦磨損件的使用性能和壽命。在裝飾鍍膜領(lǐng)域，采用物理鍍膜方式替代傳統(tǒng)高污染的電鍍與化學(xué)鍍已經(jīng)成為新的趨勢(shì)。森利可提供的靶材包括：Cr，Al，Ti，Cu，WTi，TiAl等。

在集成電路制造過(guò)程中，互連線(xiàn)薄膜以及阻擋層薄膜均是采用磁控濺射的方法沉積所得。森利能提供的靶材包括：Al，Ti，Cu，W，Ta等。